TECNOLOGIA ULTRA-SÔNICA DE PULVERIZAÇÃO PARA REVESTIMENTO DE CÉLULAS SOLARES
A tecnologia de pulverização ultrassônica é usada em aplicações de silício cristalino fotovoltaico (c-Si) e filme fino.
A tecnologia de pulverização ultra-sónica, quando comparada com a tecnologia de vapor químico (CVD), pulverização catódica, revestimento por rotação, revestimento por rolo e técnicas de revestimento de nevoeiro, pode ser um meio mais económico de depositar revestimentos de película fina em células solares. Devido à alta uniformidade das gotas atomizadas e à sua baixa velocidade durante o processo de revestimento, podem-se formar camadas espessas de micron altamente uniformes em células de película solar c-Si e finas. Benefícios adicionais de desperdício mínimo ou overspray também podem levar a economias significativas de material .
A tecnologia de pulverização ultrassônica é usada com os seguintes produtos químicos:
Dopants, Absorventes, Buffers, Organics, Etc.
Dopantes de ácido bórico
Absorventes de cloreto de cádmio (CdTe)
Sulfeto de cádmio (CdS) - camada tampão usada em CIGS, células CdTe
Absorventes de cobre selênio de índio e gálio (CIGS ou CIS)
Absorventes de sulfeto de zinco e cobre (CZTS)
Células solares orgânicas sensibilizadas por corantes (DSC, DSSC ou DYSC)
P3HT
PEDOT
PCBM
Dopantes à base de ácido fosfórico na formação de emissores
Pontos Quânticos (QD)
O Spray Ultrassônico foi usado com sucesso para pulverizar uma variedade de Pontos Quânticos. Tanto os filmes de ZnO como os pontos quânticos de CdS foram preparados utilizando técnicas de deposição de pirólise por pulverização ultrassónica a uma fracção do custo de métodos de DCV e de pulverização.
Óxidos Condutivos Transparentes (TCO)
Dióxido de estanho (SnO2)
Óxido de estanho índio (ITO)
Óxido de zinco (ZnO) como nanofios em aplicações DSC
Nanotubos de carbono (CNT)
Nanofios de Prata (AGNW)
Grafeno
Revestimentos anti-reflexo (AR)
SiO2
TiO2
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