Preparação ultra-sônico de película condutora transparente flexível de grafeno
Resumo: Com o desenvolvimento de componentes eletrônicos na direção da miniaturização e peso mais leve, grafeno filmes flexíveis condutora transparente serão substituídos por filmes condutora transparente de substrato duro, assim que sua pesquisa tem atraído muita atenção. Neste trabalho, as técnicas de preparação principal de grafeno filmes flexíveis condutora transparente e suas falhas são revistas. São descritos os resultados mais recentes da investigação neste campo, revestimento, de pulverizador de atomização ultra-sônico.
Filmes condutoras transparentes são amplamente utilizados em monitores de tela plana, células solares, dispositivos emissores de luz e outros campos de optoeletrônicos. Nos últimos anos, dispositivos de comunicação óptica e iluminação de estado sólida têm sido utilizados para preparar filmes condutoras transparentes em substratos flexíveis, que têm as vantagens de ser dobrável, leve, não-frágil, fácil de transportar, fácil produção sobre grandes áreas e baixo investimento em equipamentos. Eles podem ser amplamente utilizados no campo da optoeletrônica e tornar-se uma novas direções para o estudo dos filmes condutoras transparentes. O grafeno tem mobilidade de elétrons alta a temperatura, condutividade elétrica excelente, transmittance elevado na faixa de luz visível e infravermelho próximo, excelente condutividade térmica, propriedades químicas estáveis, excelente flexibilidade mecânica, e fabricação de baixa custa as vantagens do filme grafeno depositada sobre o substrato flexível pode não só substituir a película condutora convencional, mas também têm o desempenho flexível que a película condutora convencional não tem, e sua campo de aplicação será muito extensivo.
Métodos atuais para a preparação de grafeno filmes condutoras transparentes flexíveis incluem evaporação a vácuo, pulverização catódica e chapeamento do íon. O método de evaporação a vácuo Obtém um tamanho de grão fino, uma grande Resistividade e uma baixa transmissão da luz visível. A vantagem do método sputtering é que qualquer substância pode ser atomizados, especialmente um elemento ou um composto tendo um alto ponto de fusão e uma baixa pressão de vapor. A adesão entre a película fina e o substrato é boa, e a desvantagem é que o equipamento de pulverização catódica é complicado; a principal vantagem do chapeamento do íon é que a velocidade de deposição é alta, uma película fina relativamente uniforme pode ser preparada, e a desvantagem é que o baixo grau de ionização requer uma tensão de aceleração muito alta. Uma pequena quantidade de íons não é propício para a deposição de reação.
Altrasonic prepara a dispersão de solvente orgânico grafeno através de um dispositivo de preparação ultra-sônico do nanômetro e então pulveriza-la sobre o substrato de PET usando um dispositivo de pulverização atomização ultra-sônico. A uniformidade do método de revestimento de pulverizador atomização ultra-sônico é usada completamente espalha-se a solução, e então é secas ao ar, à temperatura ambiente. Ou seja, um filme de grafeno é obtido. Chi Fei Ultrasonics usado um analisador de espectro ultravioleta para examinar e analisar os filmes finos de grafeno, preparados por atomização ultra-sônico e método de pulverização. Verificou-se que grafeno não teve qualquer pico de absorção em toda a região espectral digitalização. Pode ser visto que o uso do método de pulverização e vaporização ultra-sônica não introduz outras ligações químicas. Ou seja, sem a introdução de átomos de oxigênio, grafeno não é oxidado, e o filme de grafeno preparado tem alta pureza e boa qualidade. Além disso, a espessura do filme grafeno é controlável e pode ser reproduzido, o filme de grafeno tem uma baixa taxa de buraco e um pequeno poro e a adesão entre o revestimento e o substrato de PET não é fácil de ser removido.
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